Producten

Huis / Producten/ Doelstellingen / Metalen sputterdoel

Chroom Doel

Chroomdoel,Cr-doel,Chroom-sputterdoel
Zuiverheid: 99,5%-99.99%
Rechthoekig doel, Rond doel, Roterend doel
Vormproces: warm isostatisch persen (HIP)
Conventionele afmetingen: ID55*OD70*L, ID125*OD153*L, φ100*40mm, φ150*30mm, φ155*30, φ80*40mm etc.
Toepassing: decoratieve coating, gereedschapscoating, coating van platte displays, dunne-film zonne-industrie, industrie voor platte beeldschermen, energiebesparende glasindustrie, optische coatingindustrie (zoals coating van achteruitkijkspiegels van auto's) enz.

Aanvraag sturen

product Introductie

Specificatie

Zuiverheid: 99,5%~99,95%;

Vormproces: warm isostatisch persen (HIP);

Conventionele afmetingen: ID55*OD70*L, ID125*OD153*L, φ100*40mm, φ150*30mm, φ155*30, φ80*40mm, enz.;

Toepassing: decoratieve coating, gereedschapscoating, coating van platte displays, dunnefilmzonne-energie-industrie, industrie voor platte beeldschermen, energiebesparende glasindustrie, optische coatingindustrie (zoals coating van achteruitkijkspiegels van auto's), enz.

Chroom		Productprestaties
Puurheid		99.5	99.95
Dichtheid g/cm3		Groter dan of gelijk aan 7,12	Groter dan of gelijk aan 7,12
Korrelgrootte/μm		Minder dan of gelijk aan 100	Minder dan of gelijk aan 100
Totale inhoud van metallische onzuiverheden/ppm		Minder dan of gelijk aan 5000	Minder dan of gelijk aan 500
Thermische geleidbaarheid/W/mK		60	100
Thermische uitzettingscoëfficiënt/1/K		8×10-6	8×10-6
Grootte/mm	Planair	Kleiner dan of gelijk aan 1600×500	Kleiner dan of gelijk aan 1600×500
	Roterend	Integraal vormen door HIP Lengte Minder dan of gelijk aan 4000 Dikte Minder dan of gelijk aan 15	Integraal vormen door HIP Lengte Minder dan of gelijk aan 4000 Dikte Minder dan of gelijk aan 15

2N5 (Sporenelementen)PPM Groter dan of gelijk aan 7,12 g/cm3

Samenstelling	Fe	Al	Si	C	S	O	N
Standaard	Minder dan of gelijk aan 1500	Minder dan of gelijk aan 1200	Minder dan of gelijk aan 1500	Minder dan of gelijk aan 200	Minder dan of gelijk aan 50	Minder dan of gelijk aan 1400	Minder dan of gelijk aan 300
Testwaarden	980	300	600	62	50	1200	200

2N8 (Sporenelementen)PPM Groter dan of gelijk aan 7,12 g/cm3

Samenstelling	Fe	Al	Si	C	S	O	N
Standaard	Minder dan of gelijk aan 800	Minder dan of gelijk aan 300	Minder dan of gelijk aan 400	Minder dan of gelijk aan 200	Minder dan of gelijk aan 50	Kleiner dan of gelijk aan 1000	Minder dan of gelijk aan 100
Testwaarden	740	78	92	84	50	340	30

3N (Sporenelementen)PPM Groter dan of gelijk aan 7,12 g/cm3

Samenstelling	Fe	Al	Si	C	S	O	N
Standaard	Minder dan of gelijk aan 500	Minder dan of gelijk aan 100	Minder dan of gelijk aan 150	Minder dan of gelijk aan 150	Minder dan of gelijk aan 30	Minder dan of gelijk aan 500	Minder dan of gelijk aan 100
Testwaarden	290	47	80	90	28	450	50

3N5 (Sporenelementen)PPM Groter dan of gelijk aan 7,12 g/cm3

Samenstelling	Fe	Al	Si	Ik	Ｎi	C	S	O	N
Standaard	Minder dan of gelijk aan 100	Minder dan of gelijk aan 50	Minder dan of gelijk aan 50	Kleiner dan of gelijk aan 10	Minder dan of gelijk aan 50	Minder dan of gelijk aan 50	Minder dan of gelijk aan 30	Minder dan of gelijk aan 150	Minder dan of gelijk aan 80
Testwaarden	50	45	40	7	10	24	27	137	30

Chroomdeeltjes met een hoge zuiverheid: veelgebruikte deeltjesgroottes zijn: 1-3mm, 3-5mm, 40 mesh, -20-300 mesh, 40#, 60#, 80#, 200#, enz. voor verdampingscoating, hoge zuiverheid, goed verdampingseffect.

toepassingsgeval

Chroom sputterdoelen worden vaak gebruikt in dunne film depositieprocessen, zoals fysieke dampdepositie (PVD) en magnetron sputteren. Deze processen worden gebruikt in verschillende industrieën, waaronder halfgeleiders, elektronica, lucht- en ruimtevaart en automobielindustrie, om dunne lagen materialen op substraten te deponeren voor verschillende doeleinden, zoals het verbeteren van de eigenschappen van het materiaal of het creëren van een specifieke oppervlakteafwerking.

Ze hebben uitstekende hechtingseigenschappen, hoge smeltpunten en zijn chemisch stabiel, waardoor ze ideaal zijn voor gebruik in deze processen. Ze worden gebruikt om dunne films chroom op verschillende substraten af te zetten, zoals glas, metaal en keramiek, om verschillende functionele en decoratieve coatings te creëren.

Eén toepassing van chroom Cr targets is in de halfgeleiderindustrie, waar ze worden gebruikt om dunne filmlagen van chroom te creëren voor verschillende doeleinden, zoals elektrode-interconnecties, barrièrelagen en ohmse contacten. Deze lagen zijn essentiële componenten van halfgeleiderapparaten en hun eigenschappen kunnen de prestaties en betrouwbaarheid van de apparaten sterk beïnvloeden.

In de lucht- en ruimtevaartindustrie en de automobielindustrie worden ze gebruikt om beschermende coatings aan te brengen op motoronderdelen, zoals turbinebladen en uitlaatsystemen, om de duurzaamheid en bestendigheid tegen hoge temperaturen te verbeteren.

In de elektronica-industrie worden Cr-sputtertargets gebruikt om dunne films op verschillende substraten aan te brengen, zoals beeldschermen en touchscreens, om hun prestaties en duurzaamheid te verbeteren.

Populaire tags:

Een paar: TiAl50: 50at% sputterdoel voor bruine kleur

Volgende: Zirkonium sputterdoel

Misschien vind je dit ook leuk

Aanvraag sturen