Multi-arc targets voor metalen met een hoge zuiverheid

Metalen en gelegeerde multi-arc ronde doelen

1. Zuiverheid: 2N8,3N,3N5.4N,4N5,5N

2. Techniek en oppervlak: gesmeed, geslepen, glanzend helder oppervlak, HIP

3. Vorm/vorm: cirkelvormig/vlak/buisvormig/rond/plaat/buis, op maat gemaakt volgens tekening

4. Grootte:

Ronde diameter: 60~1000mm, dikte: 10~1500mm

Plaatdikte (15~30) * breedte (50~1500) * lengte (100~2000) mm

Buis OD: 20~300mm, dikte: 5~60mm, lengte: 50~2000mm

Andere gerelateerde

Vlakke/ronde hoge zuiverheid 99,99% tot 99,995 metalen doelmateriaal Chroom Cr sputterdoel

Metaal: Ti, Ni, Cu, Co, Cr, Al, Fe, V, Zn, Sn, W, Mo, Ta, Nb, Zr, Hf, Ge, Bi, Sb, Mg, Mn, enz.

Doelen voor metaallegeringen: Mo, Zr, Ta, Nb, NbZr, Ni, Si, Sn, NiGr (8: 2), NiGr (95: 5), NiV, NiCu, NiCr, NiFe, TiAl, AlCr, SiAl, CoFe, CoCr, VFe, TiCr, TiV, NiTi, NbTi, WTi, WCu, SiGe, CoTaZr, CuNiMn en etc. Speciale legeringen kunnen op maat worden gemaakt.

Zeldzame aardmetalen: Sc, Y, La, Ce, Gd, Tb, Dy, Nd, Sm, Er, Tm, Yb, enzovoort. Andere legeringen kunnen op maat worden gemaakt.

Metalen met een hoge zuiverheidsgraad: Ni, Ti, Al, V, Co, Cu, Ta, Nb, W, Mo, Cr, Ag, Au, enz.

Metaalkroes: W, Mo, Ta, Nb, Cu en etc.
Metalen kegel: Ni, Ti, Co, Cr, Ta, Nb, W, Mo, enz.

Sollicitatie

Met doel wordt een sputterbron bedoeld die onder geschikte procesomstandigheden verschillende functionele dunne films op een substraat (glas, PET, enz.) kan sputteren via magnetronsputteren, multi-arc ion plating of een ander coatingsysteem.

Het magnetron-sputtersysteem plaatst een krachtige Gaussische magneet achter het negatieve doel en de vacuümkamer wordt gevuld met een bepaalde hoeveelheid inert gas (Ar) als ontladingsdrager. Onder invloed van hoge druk ioniseren Ar-atomen in Ar+-ionen en elektronen, wat resulteert in een plasma-gloeiontlading. Tijdens de versnelling van de vlieg naar het substraat worden de elektronen beïnvloed door het magnetische veld loodrecht op het elektrische veld, dat de elektronen afbuigt en aan het oppervlak nabij het doel wordt gebonden. In het plasmagebied bewegen de elektronen zich spiraalvormig langs het doeloppervlak en botsen ze constant met Ar-atomen tijdens de beweging, waardoor een grote hoeveelheid Ar+-ionen wordt geïoniseerd. Na meerdere botsingen neemt de energie van de elektronen geleidelijk af, waardoor de magnetische krachtlijnen verdwijnen en ze uiteindelijk op het substraat, de binnenwand van de vacuümkamer en de doelbron vallen.

Populaire tags: